电极去气

管内的电极系统除用外烘烤去气外，还可用高频加热、电子轰击以及直接通电加热等方法进行除气。加热的温度应高于使用温度。

阴极分解和激活

对于氧化物阴极，在排气过程中须加热阴极使碳酸盐分解成氧化物。为提高阴极的发射能力，还应进一步提高阴极温度或用支取较大电流的方法加以激活。阴极的分解激活也有在管子封离后进行的，如显像管的“台下分解”。

封离

在器件排气过程终了，管内气体压强达10-5帕以下时，将器件与排气系统分开并保持密封的过程叫封离。对采用玻璃排气管的器件，用火焰喷烧排气管使玻璃融合而与排气系统分开。采用金属排气管的器件，则用特殊夹钳直接夹断金属管，夹口起密封作用以保持管内的真空状态。含有吸气材料的器件常用高频感应加热使蒸散型吸气剂蒸散或使非蒸散型吸气剂激活以吸收器件内残余气体，进一步提高真空度。

老炼

对排气后的器件进行电气处理以获得稳定的电气性能的工艺称为老炼。

首先在阴极加热条件下，各电极上加正常的或略高的电压，并持续一定时间，使电极进一步去气，并使阴极发射电流和其他参数达到稳定。对于高电压器件，老炼前应在阴极不加热的条件下，各电极间加以比工作电压更高的电压，利用放电现象，去除器件内各电极上残留的毛刺、灰尘以及绝缘件表面的污点等，以免器件在使用时发生跳火现象。为保持器件内足够的真空度，有的器件本身还装有钛泵。

测试

器件经老炼后需要测试性能，主要参数应达到预定的指标。这种测试亦称“热测“。为使用可靠，还须抽样进行动态特性试验、寿命试验、耐冲击试验、耐震试验及冷热循环等例行试验。

充气工艺

有些器件,如稳压管、闸流管和离子显示器件等，内部须充有一定的特种气体如氢、氦、氖、氩等。气体在排气过程结束时充入。充入的气体要非常纯净，因此充气过程要采取一定措施，仔细控制。

镀膜工艺

在现代真空电子器件制造过程中，镀膜工艺应用很广。镀膜工艺包括真空蒸发、溅射、离子涂敷及化学气相沉积等。在制作摄像管、光电倍增管时，各类透明导电膜、光电阴极和光导靶面材料采用真空蒸涂的方法制成。显像管荧光膜内表面常蒸铝膜以防止荧光膜灼伤，也可提高管子的亮度和对比度。现代镀膜工艺也被用来改变某些材料的表面状态，制作阴极以及使陶瓷或其他介质表面低温金属化和实现高频低损耗的封接等。

离子刻蚀

这是用离子能量将固体原子或分子从表面层上逐渐剥离的一种新型微细加工方法。使用掩膜可以制出精密图形。这种工艺可用于器件零部件的表面薄层剥离、有机膜的去除以及对摄像管晶体靶面进行清洁处理或制作靶面的精细网格等（见电子束与离子束微细加工）。

荧光屏涂敷工艺

显像管和示波管屏面内表面须涂敷一层均匀的荧光物质。涂屏的方法应尽量保持材料的荧光性质。对涂层的要求是均匀、颗粒大小分布要满足一定要求、真空性能好、放气量小、有足够的粘附强度。涂屏方法主要有沉淀法、粉浆法和干法几种。

沉淀法

黑白显像管、示波管常用沉淀法涂屏。先将玻屏清洗干净,注入含硅酸钾的工作液,再注入含荧光质的悬浮液。经过一定时间的静置沉淀后倒出残液，通入60左右的热空气流，同时用红外灯或热空气均匀地从外部加热，使之干燥。在400～450下焙烧，以去除涂敷过程中引入的有机杂质。

粉浆法

彩色显像管荧光屏多采用粉浆法涂敷荧光粉，即采用含有水溶性感光胶的荧光粉浆注入屏面内进行旋涂,使荧光粉浆均匀分布,再经光学曝光、显影（温纯水冲洗）等步骤制造而成。

三种荧光物质需分三次相继涂敷以使其分别固定在相应的位置上。有的管型需预先在三种色粉之间的位置涂以石墨黑底。荧光膜上要先用溶液法涂一层有机膜，再蒸涂铝膜以保证铝膜表面光亮，而有机膜在以后的焙烧中烧掉。由于屏面涂有荧光粉而不能经受玻璃熔封的高温，须采用低熔点玻璃焊料在 440左右将屏面与颈锥组件加以封接。

干法

这是新发展的一种光粘工艺，属于干法涂屏工艺。

先在屏面上涂以疏水性预涂膜，再涂以光粘胶。由于光粘胶曝光即有粘性，所以在撒上干荧光粉后，可用空气喷吹屏幕，将未曝光部分的粉吹掉而达到涂屏的目的。彩色管的三种颜色的荧光粉分三次进行涂敷。这种工艺简单、成本低、荧光膜亮度高、分辨率高，可以满足超高精细管对涂屏的要求。